TI DLP 技术赋能，无掩膜光刻革新高级封装制造

在电子制造领域，光刻技术的发展一直是推动行业进步的关键因素。德州仪器 (TI) 近日推出的新型工业数字微镜器件 (DMD) DLP991UUV，为新一代数字光刻技术的发展注入了强大动力。这一器件作为 TI 迄今最高分辨率的直接成像解决方案，具备诸多卓越性能。它拥有 890 万像素，具备亚微米级分辨率能力，数据传输速率更是高达每秒 110 千兆像素。在当前日益复杂的封装工艺中，对可扩展性、成本效益和精度的要求不断提高，DLP991UUV 不仅能够满足这些要求，还能消除对昂贵掩模技术的依赖。

图:TI DLP® 技术造就高级封装领域的无掩模数字光刻系统

无掩模数字光刻机在高级封装制造领域的广泛应用，正改变着传统的光刻方式。这类光刻机无需光掩模或高端模板，可直接在材料上投射光线进行电路设计与蚀刻。高级封装将多种芯片与技术集成于单一封装内，使得数据中心和 5G 等高性能计算应用能够实现更小巧、更快速、能效更高的系统设计。借助 TI DLP® 技术，系统组装设备制造商可利用无掩模数字光刻实现高级封装所需的大规模高分辨率印刷。新款 DLP991UUV 作为可编程光掩模，提供精确的像素控制与可靠的高速性能。

TI DLP 技术副总裁兼总经理 Jeff Marsh 表示：“通过推动胶片到数字投影的转型，我们曾重新定义了电影放映行业。如今，TI DLP® 技术再次站在重大产业变革的前沿，推动无掩模数字光刻系统的建设，使全球工程师能够突破当前高级封装的限制，为市场带来强大的计算解决方案。”

高级封装技术的不断发展，对光刻技术的成本效益、可扩展性和精度提出了更高要求。TI DLP® 技术通过消除掩模基础设施及相关费用，有助于显著降低制造成本。同时，该技术支持在不更换物理掩模的情况下实现实时、灵活的设计调整。它可在各类尺寸基板上实现亚微米级精度，从而提升产量与良率，减少缺陷。这些优势正好契合高级封装制造商在 AI 系统和 5G 网络中对高带宽、低功耗组件日益增长的需求。

DLP991UUV 是 TI 直接成像产品组合中的最新旗舰器件。该器件的主要特性包括：

◆超过890万像素的极高分辨率

◆高达110千兆像素/秒的极快处理速度

◆405nm 波长下功率密度达 22.5W/cm²

◆支持低至343nm的工作波长

◆仅 5.4um 的微镜间距

德州仪器 (TI) DLP® 技术通过调控数百万个微镜，提供领先的高分辨率显示与高级光控解决方案。该技术的应用场景十分广泛，从家庭影院绚丽的 4K 内容投影，到智能汽车照明，乃至下一代工业制造所需的高精度光刻与机器视觉系统。

目前，新款 DLP991UUV DMD 支持预量产，可通过 TI 官网 (TI.com) 进行采购，并且支持多种付款方式和发货方式。德州仪器（TI）作为一家全球性的半导体公司，一直致力于通过半导体技术让电子产品更经济实用，推动世界变得更美好。其 DLP® 技术的不断创新，无疑将为电子制造行业带来更多的可能性。