曝三星将携手长江存储,引入创新技术破NAND闪存困局
中国北京时间2025年02月25日,星期二——据韩国媒体报道,全球领先的半导体制造商三星电子近日宣布,将与中国存储芯片厂商长江存储签署3D NAND混合键合专利许可协议。此举标志着三星将首次引入长江存储的专利技术,以应对其在NAND闪存技术发展上遇到的挑战,并加速下一代产品的开发进程。
根据协议内容,三星将从其第10代V-NAND(V10)产品开始,使用长江存储的专利技术,特别是在“混合键合”技术方面。混合键合技术是一种通过直接将两片晶圆贴合,无需传统凸点连接,从而缩短电气路径、提高性能与散热能力,同时优化生产效率的创新技术。长江存储早在四年前就率先将混合键合技术应用于3D NAND制造,并命名为“晶栈(Xtacking)”,同时建立了完善的专利布局。
三星计划于2025年下半年启动大规模生产其V10 NAND闪存。这款新型NAND预计将达到约420至430层的堆叠高度,标志着技术上的又一次飞跃。然而,随着堆叠层数的不断增加,特别是当超过400层时,下层外围电路所受的压力增大,对可靠性造成了影响。为了解决这一问题,三星决定在V10 NAND中引入W2W混合键合技术。
业内人士指出,目前掌握3D NAND混合键合关键专利的公司包括美国Xperi、中国长江存储和中国台湾台积电。三星经过评估认为,从下一代V10 NAND开始,其已经无法再避免长江存储专利的影响。因此,选择与长江存储进行合作,成为了三星应对技术挑战的重要策略。
这一合作不仅体现了三星对长江存储技术实力的认可,也预示着存储行业将迎来更加紧密的国际合作与技术交流。长江存储在闪存技术领域的创新已经取得了显著成果,其晶栈Xtacking技术通过独立加工负责数据I/O及记忆单元操作的外围电路,为NAND闪存带来了更高的I/O接口速度和更多的操作功能。这一创新加工方式的选择,使得NAND闪存在性能上实现了显著提升。
对于长江存储来说,此次向三星这样的头部存储技术大厂提供专利许可,属于是中国存储产业历史上的首次。这充分凸显了长江存储在3D NAND领域的技术创新实力,并有望为中国存储芯片产业带来更多的发展机遇。
此外,除了三星,SK海力士也在开发用于400层以上NAND产品的混合键合技术。业内人士认为,未来SK海力士同样可能需要与长江存储达成专利授权协议,以加速其技术的研发进程。
此次合作不仅有助于三星解决技术难题,加速下一代NAND产品的开发,同时也为中国存储芯片厂商提供了更多的国际合作机会。随着NAND技术的不断进步,存储行业的未来充满了无限可能。

热门文章
- LITTELFUSE(力特) TVS 二极管产品目录(英文版) 2024-09-23
- CTS 温度解决方案 - 产品目录(英文版) 2024-09-19
- 英伟达开发SOCAMM:基于LPDDR5X,体积小巧性能强劲 2025-02-19
- 默克1.55亿欧元收购Unity-SC,并更名显示器业务 2024-11-07
- AMD推出首款“Venice” 处理器采用台积电2nm工艺 2025-04-16
- Vishay发布高性能40V MOSFET新品SiJK140E 2024-12-05
- AMD 发布高效能 EPYC 嵌入式 8004 系列,专为嵌入式系统设计 2024-10-10
- 台积电斥资2000亿新台币扩建CoWoS封装厂,力破砍单谣言 2025-01-21
- 全球首创!香港理工大学研发16位量子比特半导体微型处理器芯片 2024-09-09
- CTS 频率控制产品—晶振选型手册(英文版) 2024-09-19