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台积电封装技术疯狂扩产,抢占AI时代先机

时间:2024-09-26 10:14:37 浏览:107

在人工智能(AI)和高性能计算(HPC)市场需求持续高涨的背景下,全球半导体代工巨头台积电正加速其封装技术的扩产步伐,以满足日益增长的市场需求。近日,台积电宣布了一系列扩产计划,展现了其在半导体行业中的技术领导地位和对未来市场的坚定信心。

扩产背后的市场需求

随着AI技术的快速发展和广泛应用,对先进封装技术的需求也急剧增加。台积电的封装技术,特别是其CoWoS(晶圆基板上的芯片)和SoIC(系统整合单芯片)技术,在AI芯片领域备受青睐。据台积电董事长魏哲家透露,人工智能的火爆直接带动了CoWoS需求的激增,台积电正积极应对这一趋势,持续扩增产能以满足市场需求。

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疯狂扩产计划

为了满足未来几年的市场需求,台积电已经制定了雄心勃勃的扩产计划。据透露,台积电计划在未来几年内大幅提升其封装技术的产能。具体来说,台积电计划将其CoWoS技术的月产能从当前水平大幅提升,目标是在2025-2026年间达到供需平衡。此外,台积电还计划在未来几年内将SoIC技术的月产能从约2000片提升至4000至5000片,以应对AI和高性能计算市场的快速增长。

为实现这一目标,台积电正在全球范围内寻找合适的扩厂地点,并加速现有工厂的扩建和改造。例如,台积电早前购入了群创南科的5.5代LCD面板厂,并将其改造为封装工厂,预计该工厂将在明年下半年投产。此外,台积电还在嘉义科学园区建设新的CoWoS先进封装厂,尽管在施工过程中遇到了一些挑战,但台积电表示将按计划推进,确保在2028年实现量产。

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技术创新与研发投入

在扩产的同时,台积电也在不断迭代其封装技术,以提供更加先进和高效的解决方案。台积电将其CoWoS技术提升到了新的水平,支持更大规模和更复杂性的芯片封装。据介绍,到2026年,台积电的CoWoS_L技术将使中介层(硅基层)的尺寸增加到大约5.5倍的掩模尺寸,为更大的逻辑芯片和多达12个HBM内存堆栈留出空间。到2027年,这一技术将进一步扩展到8倍掩模版尺寸甚至更大,实现前所未有的集成封装规模。

此外,台积电还在积极研发3D IC技术,特别是其SoIC技术。该技术通过混合晶圆键合技术,将两个先进的逻辑器件直接堆叠在一起,实现超密集和超短的连接。到2027年,台积电计划将SoIC技术的凸块间距从当前的9μm缩小到3μm,从而大幅提升组装芯片的带宽密度和性能。

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全球布局与战略考量

除了台湾本土的扩产计划外,台积电还在全球范围内进行布局。据报道,台积电正考虑在日本建立先进封装厂,以进一步拓展其全球市场份额。此外,台积电还在美国投资数十亿美元建设新的芯片工厂,以满足当地市场对先进芯片的需求。

台积电的疯狂扩产计划不仅反映了其对市场需求的敏锐洞察和积极应对,也展现了其在半导体行业中的技术领导地位。随着AI和高性能计算市场的持续增长,台积电有望在未来几年内继续保持领先地位,为全球客户提供更加先进和高效的芯片解决方案。